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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 限定条件 专题：武汉轻工大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 TiAl3-TiN Composite Nanoparticles Produced by Hydrogen Plasma-Metal Reaction: Synthesis, Passivation, and Characterization 期刊论文 Nanomaterials, 2016, 卷号: 6, 期号: 6, 页码: 101- 作者:  Li, Ju Ying;  Mei, Qing Song* 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2019/12/27 TiAl3  TiN  hydrogen plasma-metal reaction  nanoparticles  passivation   Improved Interfacial and Electrical Properties of Ge-Based Metal-Oxide-Semiconductor Capacitor With LaTaON Passivation Layer 期刊论文 IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 2014, 卷号: 61, 期号: 11, 页码: 3608-3612 作者:  Ji, Feng;  Xu, Jing-Ping;  Huang, Yong;  Liu, Lu;  Lai, P. T. 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/27 Ge metal-oxide-semiconductor (Ge MOS)  high-k dielectric  interface properties  LaTaON  passivation layer   Improved interface properties of Ge metal-oxide-semiconductor capacitor with TaTiO gate dielectric by using in situ TaON passivation interlayer 期刊论文 Applied Physics Letters, 2011, 卷号: 98, 期号: 18, 页码: 182901-182901-3 作者:  Ji, F.;  Xu, J.P.;  Liu, J.G.;  Li, C.X.;  Lai, P.T. 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/27