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Microstructure, oxidation and H2-permeation resistance of TiAlN films deposited by DC magnetron sputtering technique 期刊论文
2004, 卷号: 180-181, 页码: 9-14
作者:  Man, B.Y.[1,2];  Guzman, L.[1];  Miotello, A.[1];  Adami, M.[1]
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Microstructure, oxidation and H-2-permeation resistance of TiAlN films deposited by DC magnetron sputtering technique 会议论文
Strasbourg, FRANCE, JUN 10-13, 2003
作者:  Man, BY[1];  Guzman, L[2];  Miotello, A[3];  Adami, M
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