×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
CORC
首页
科研机构
检索
知识图谱
申请加入
托管服务
登录
注册
在结果中检索
科研机构
大连理工大学 [2]
内容类型
会议论文 [1]
期刊论文 [1]
发表日期
2004 [2]
×
知识图谱
CORC
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共2条,第1-2条
帮助
限定条件
发表日期:2004
专题:大连理工大学
第一署名单位
第一作者单位
通讯作者单位
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
作者升序
作者降序
题名升序
题名降序
发表日期升序
发表日期降序
提交时间升序
提交时间降序
Chemical structure of carbon nitride films prepared by MW-ECR plasma enhanced magnetron sputtering
会议论文
14th Congress of the International-Federation-for-Heat-Treatment-and-Surface-Engineering, Shanghai, PEOPLES R CHINA, 2004-01-01
作者:
Xu, J
;
Gao, P
;
Ding, WY
;
Li, X
;
Deng, XL
收藏
  |  
浏览/下载:1/0
  |  
提交时间:2020/01/02
carbon nitride
plasma enhanced deposition
microwave ECR plasma
magnetron sputtering
High-quality carbon-doped beta-type FeSi2 films synthesized by ion implantation
期刊论文
8th IUMRS International Conference on Advanced Materials (ICAM 2003), 2004, 卷号: 461, 页码: 48-56
作者:
Dong, C
;
Li, X
;
Nie, D
;
Xu, L
;
Zhang, Z
收藏
  |  
浏览/下载:3/0
  |  
提交时间:2020/01/02
silicide
semiconductor
ion implantation
orientation relationship
©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by
CSpace