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Vertical cavity apparatus with tunnel junction 专利
专利号: US6487230, 申请日期: 2002-11-26, 公开日期: 2002-11-26
作者:  BOUCART, JULIEN;  CHANG-HASNAIN, CONSTANCE;  JANSEN, MICHAEL;  NABIEV, RASHIT;  YUEN, WUPEN
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Electrical properties of Si1-x-yGexCy films grown by ion implantation and solid phase epitaxy 会议论文
Symposium on Silicon-based Heterostructure Materials held at the 8th IUMRS International Conference on Electronic Materials (IUMRS-ICEM2002), XIAN, PEOPLES R CHINA, JUN 10-14, 2002
作者:  Liu, XQ;  Zhen, CM;  Wang, YY;  Zhang, J;  Pu, YJ
收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2015/07/31
Formation of oxygen-free gadolinium silicide layer by ion implantation and pulsed excimer laser irradiation 会议论文
Symposium on Silicon-based Heterostructure Materials held at the 8th IUMRS International Conference on Electronic Materials (IUMRS-ICEM2002), XIAN, PEOPLES R CHINA, JUN 10-14, 2002
作者:  He, DY;  Wang, WW;  Jia, HJ;  Xie, EQ
收藏  |  浏览/下载：8/0  |  提交时间：2015/07/31
Radiolysis of amino acid derivatives induced by the irradiation of 110keV Fe+ ion beams 期刊论文
ACTA PHYSICO-CHIMICA SINICA, 2002, 卷号: 18, 期号: 4, 页码: 1033-1037
作者:  Li, HY;  Yuan, SB;  Wei, ZQ;  Gao, QX
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Ion beam synthesis and characterization of yttrium silicide 期刊论文
APPLIED SURFACE SCIENCE, 2002, 卷号: 199, 期号: 1-4, 页码: 1-5
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收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2015/05/25
Ion implanted grating 专利
专利号: AU2002306838A1, 申请日期: 2002-10-08, 公开日期: 2002-10-08
作者:  BULLINGTON, JEFF A.
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Preparation of Si1-x-yGexCy semiconductor films on Si by ion implantation and solid phase epitaxy 期刊论文
ACTA PHYSICA SINICA/物理学报, 2002, 卷号: 51, 期号: 10, 页码: 2340-2343
作者:  Lu, XQ;  Wang, YY;  Zhen, CM;  Zhang, J;  Yang, YH
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Object detection with plane with intensity distribution 专利
专利号: EP1237010A1, 申请日期: 2002-09-04, 公开日期: 2002-09-04
作者:  FRUMKER, EVGENY;  ROSENBLUM, ELIEZER;  SHAMAY, EZRA
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Object detection with plane with intensity distribution 专利
专利号: EP1237010A1, 申请日期: 2002-09-04, 公开日期: 2002-09-04
作者:  FRUMKER, EVGENY;  ROSENBLUM, ELIEZER;  SHAMAY, EZRA
收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2019/12/30
Mobility and retention of implanted hydrogen in Ti225 titanium alloy 会议论文
作者:  Wang, T;  Grambole, D;  Grotzschel, R;  Herrmann, F;  Kreissig, U
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