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科研机构
半导体研究所 [4]
内容类型
期刊论文 [3]
会议论文 [1]
发表日期
2000 [4]
学科主题
光电子学 [4]
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发表日期:2000
学科主题:光电子学
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In situ annealing during the growth of relaxed SiGe
会议论文
conference on optical and infrared thin films, san diego, ca, 36739
Li DZ
;
Huang CJ
;
Cheng BW
;
Wang HJ
;
Yu Z
;
Zhang CH
;
Yu JZ
;
Wang QM
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浏览/下载:14/0
  |  
提交时间:2010/10/29
Ultrahigh Vacuum Chemical Vapor Deposition
SiGe
Refractive High Energy Electron Diffraction
tansmission electron microscopy
Double Crystal X-Ray Diffraction
MOBILITY 2-DIMENSIONAL ELECTRON
CRITICAL THICKNESS
STRAINED LAYERS
GE
RELAXATION
EPILAYERS
SI1-XGEX
GESI/SI
GASES
Annealing Behavior of Si_(1-x)Ge_x/Si Heterostructures
期刊论文
半导体学报, 2000, 卷号: 21, 期号: 10, 页码: 962
作者:
Cheng BW(成步文)
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浏览/下载:8/0
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提交时间:2010/11/23
Photocurrent Measurem entof Si_(1-x)Ge_x/Si Multiple Quantum Wells With Ion Im plantationand Therm al Annealing
期刊论文
半导体学报, 2000, 卷号: 21, 期号: 1, 页码: 18
作者:
Cheng BW(成步文)
;
Chen YH(陈涌海)
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2010/11/23
The improvement characteristics of homoepitaxial GaAs grown by atomic hydrogen-assisted molecular beam epitaxy
期刊论文
journal of infrared and millimeter waves, 2000, 卷号: 19, 期号: 3, 页码: 191-193
Wang HL
;
Zhu HJ
;
Ning D
;
Wang H
;
Wang XD
;
Guo ZS
;
Feng SL
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浏览/下载:85/0
  |  
提交时间:2010/08/12
atomic hydrogen-assisted molecular beam epitaxy
deep level transient spectroscopy
deep level defects
DISLOCATION DENSITY
IRRADIATION
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