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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 发表日期：1999     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 a-SiCx : H films deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition at low temperature used for moisture and corrosion resistant applications 期刊论文 THIN SOLID FILMS, 1999, 卷号: 352, 期号: 1-2, 页码: 97-101 Jiang, LJ; Chen, X; Wang, XH; Xu, LQ; Stubhan, F; Merkel, KH 收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2011/11/09 SILICON CARBIDE FILMS  FREQUENCY  LAYERS  ALLOY  PECVD