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浏览/检索结果: 共8条，第1-8条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Prognostic and clinicopathological value of MUC1 expression in colorectal cancer A meta-analysis 期刊论文 MEDICINE, 2019, 卷号: 98, 期号: 9 作者:  Liu, Tao;  Li, Chao;  Yin, Libin;  Zuo, Didi;  Lin, Yuyang 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/12/05 clinicopathologia  colorectal cancer  meta-analysis  micin-1  prognosis   Prognostic Value of MUC2 Expression in Colorectal Cancer: A Systematic Review and Meta-Analysis 期刊论文 GASTROENTEROLOGY RESEARCH AND PRACTICE, 2018 作者:  Li, Chao;  Zuo, Didi;  Yin, Libin;  Lin, Yuyang;  Li, Chenguang 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/12/05 Moire-Based Absolute Interferometry With Large Measurement Range in Wafer-Mask Alignment 期刊论文 IEEE PHOTONICS TECHNOLOGY LETTERS, 2015, 卷号: 27, 期号: 4 作者:  Di, Chengliang;  Yan, Wei;  Hu, Song;  Yin, Didi;  Ma, Chifei 收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2015/07/10 Moire fringes  measurement range  wafer-mask alignment  lithography   Moiré-based absolute interferometry with large measurement range in wafer-mask alignment 期刊论文 IEEE Photonics Technology Letters, 2015, 卷号: 27, 期号: 4, 页码: 435-438 作者:  Di, Chengliang;  Yan, Wei;  Hu, Song;  Yin, Didi;  Ma, Chifei 收藏  |  浏览/下载：24/0  |  提交时间：2016/11/23 Moiré-based absolute interferometry with large measurement range in wafer-mask alignment 期刊论文 IEEE Photonics Technology Letters, 2015, 卷号: 27, 期号: 4, 页码: 435-438 作者:  Di, Chengliang;  Yan, Wei;  Hu, Song;  Yin, Didi;  Ma, Chifei 收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2016/11/22 Dual-frequency-moiré based absolute position sensing for lens focusing 会议论文 Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering, 2015 作者:  Yin, Didi;  Wang, Yahui;  Di, Chengliang 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2016/11/23 A Moire-Based Four-Channel Focusing and Leveling Scheme for Projection Lithography 期刊论文 IEEE PHOTONICS JOURNAL, 2014, 卷号: 6, 期号: 4 作者:  Di, Chengliang;  Yan, Wei;  Hu, Song;  Li, Yanli;  Yin, Didi 收藏  |  浏览/下载：24/0  |  提交时间：2015/07/10 Moire fringes  focusing and leveling  fringe analysis  lithography   A moiré-based four-channel focusing and leveling scheme for projection lithography 期刊论文 IEEE Photonics Journal, 2014, 卷号: 6, 期号: 4, 页码: 6842663 作者:  Di, Chengliang;  Yan, Wei;  Hu, Song;  Li, Yanli;  Yin, Didi 收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2016/11/23