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西安理工大学 [4]
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An Effective Method of Reducing TSV Thermal Stress by STI
会议论文
2019 IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON ELECTRON DEVICES AND SOLID-STATE CIRCUITS (EDSSC), 2019-01-01
作者:
Wang, Fengjuan
;
Qu, Xiaoqing
;
Yu, Ningmei
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2019/12/20
Keywords Three-dimensional integrated circuits (3-D IC)
through-silicon via (TSV)
shallow trench isolation (STI)
thermal stress
keep-out zone (KOZ)
An Effective Approach of Improving Electrical and Thermo-Mechanical Reliabilities of Through-Silicon Vias
期刊论文
2017, 卷号: 17, 页码: 106-112
作者:
Wang, Fengjuan
;
Yu, Ningmei
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  |  
浏览/下载:3/0
  |  
提交时间:2019/12/20
Crosstalk noise
highly doped layer (HDL)
keep-out zone (KOZ)
through-silicon via (TSV)
Effects of coaxial through-silicon via on carrier mobility along [100] and [110] crystal directions of (100) silicon
期刊论文
2015, 卷号: 12
作者:
Wang, Fengjuan
;
Yu, Ningmei
;
Zhu, Zhangming
;
Yin, Xiangkun
;
Yang, Yintang
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  |  
浏览/下载:4/0
  |  
提交时间:2019/12/20
coaxial through-silicon via (TSV)
anisotropic silicon
carrier mobility
finite element analysis (FEA)
keep-out-zone (KOZ)
Study on thermal stress and keep-out zone induced by Cu and SiO2 filled coaxial-annular through-silicon via
期刊论文
2015, 卷号: 12
作者:
Wang, Fengjuan
;
Yu, Ningmei
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浏览/下载:3/0
  |  
提交时间:2019/12/20
thermal stress
keep-out zone (KOZ)
anisotropic silicon
coaxial-annular through-silicon via (CA-TSV)
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