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A New Prewetting Process of Through Silicon Vias (TSV) Electroplating for 3D Integration
期刊论文
JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS, 2019, 卷号: 28, 期号: 3
作者:
Li, Cao
;
Nie, Jun
;
Zou, Jinglong
;
Liu, Sheng
;
Zheng, Huai
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2019/12/05
3D integration
prewetting
TSV electroplating
TSV filling
Study of Annular Copper-Filled TSVs of Sensor and Interposer Chips for 3-D Integration
期刊论文
IEEE TRANSACTIONS ON COMPONENTS PACKAGING AND MANUFACTURING TECHNOLOGY, 2019, 卷号: 9, 期号: 3
作者:
Li, Cao
;
Zou, Jinglong
;
Liu, Sheng
;
Zheng, Huai
;
Fei, Peng
收藏
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浏览/下载:6/0
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提交时间:2019/12/05
3-D integration
annular copper filling
throughsilicon via (TSV)
Effect of Reverse Pulse on Additives Adsorption and Copper Filling for Through Silicon Via
期刊论文
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2018, 卷号: 166, 期号: 1, 页码: D3006-D3012
作者:
Zhu, QS
;
Zhang, X
;
Liu, CZ
;
Liu, HY
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浏览/下载:18/0
  |  
提交时间:2018/12/25
Effect of Reverse Pulse on Additives Adsorption and Copper Filling for Through Silicon Via
期刊论文
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2018, 卷号: 166, 期号: 1, 页码: D3006-D3012
作者:
Zhu, Q. S.
;
Zhang, X.
;
Liu, C. Z.
;
Liu, H. Y.
收藏
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浏览/下载:0/0
  |  
提交时间:2021/02/02
Effect of ultrasound on copper filling of high aspect ratio through-silicon via (TSV)
期刊论文
Journal of the Electrochemical Society, 2017, 卷号: 164, 期号: 4, 页码: D126-D129
作者:
Xiao, Hongbin
;
Wang, Fuliang*
;
Wang, Yan
;
He, Hu
;
Zhu, Wenhui
收藏
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浏览/下载:8/0
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提交时间:2019/12/03
Numerical modeling and experimental verification of copper electrodeposition for through silicon via (TSV) with additives
期刊论文
Microelectronic Engineering, 2017, 卷号: 170, 期号: Volume 170, 页码: 54-58
作者:
Xiao, Hongbin
;
He, Hu
;
Ren, Xinyu
;
Zeng, Peng
;
Wang, Fuliang*
收藏
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2019/12/03
TSV
Copper filling
Electrodeposition
Numerical modeling
Additives
Effect of ultrasound on copper filling of high aspect ratio through-silicon via (TSV) (EI收录)
期刊论文
Journal of the Electrochemical Society, 2017, 卷号: 164
作者:
Xiao, Hongbin[1,2]
;
Wang, Fuliang[1,2]
;
Wang, Yan[1,2]
;
He, Hu[1,2]
;
Zhu, Wenhui[1,2]
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2019/04/24
Aspect ratio
Copper
Electronics packaging
Filling
Integrated circuit manufacture
Ultrasonics
半导体器件制造方法
专利
专利号: US9412657, 申请日期: 2016-08-09, 公开日期: 2016-06-09
作者:
赵超
;
朱慧珑
;
钟汇才
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2017/06/12
Formation of Polymer Insulation Layer (Liner) on Through Silicon Vias (TSV) with High Aspect Ratio over 5:1 by Direct Spin Coating
会议论文
2016 IEEE 66TH ELECTRONIC COMPONENTS AND TECHNOLOGY CONFERENCE (ECTC), Las Vegas, NV
作者:
Li, Liyi
;
Tuan, Chia-Chi
;
Moon, Kyoung-Sik
;
Zhang, Guoping
;
Sun, Rong
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浏览/下载:37/0
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提交时间:2017/01/15
Parameters Analysis of TSV Filling Models of Distinct Chemical Behaviours of Additives
期刊论文
Electrochimica Acta, 2016, 卷号: 221, 页码: 70-79
作者:
Wang, Yan
;
Zhu, Wenhui*
;
Li, Xiang
;
Wang, Fuliang*
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2019/12/03
Additives
Filling Models
Copper electrodeposition
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