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Effects of HfO2 Interlayer on Microstructure and Mechanical Property of Al2O3 Thin Film on MgF2 Substrate
期刊论文
JOURNAL OF INORGANIC MATERIALS, 2016, 卷号: 31, 期号: 7, 页码: 779-784
作者:
Song Bo
;
Zhao Li-Li
;
Chen Xiao-Ying
;
You Li-Jun
;
Song Li-Xin
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2017/02/27
HfO2 interlayer
Al2O3 thin film
microstructure
mechanical properties
MgF2 substrate
Novel Sn-assisted nitridation of Ge/HfO2 interface and improved electrical properties of the MOS capacitor
期刊论文
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2014, 卷号: 53, 期号: 4, 页码: 41301
作者:
赵梅;Zhao, M
;
Liu, L
;
Liang, RR
;
Wang, J
;
Xu, J
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2016/04/08
Interface characteristics of peeling-off damages of laser coatings
期刊论文
appl. surf. sci., 2014, 卷号: 290, 页码: 71
作者:
Cui, Yun
;
Yi, Kui
;
Hu, Guohang
;
Shao, Jianda
收藏
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2016/11/28
Optical coatings
Interface characteristics
Laser irradiation
Peeling-off damage
Interface characteristics of peeling-off damages of laser coatings
期刊论文
appl. surf. sci., 2014, 卷号: 290, 页码: 71
作者:
Cui, Yun
;
Yi, Kui
;
Hu, Guohang
;
Shao, Jianda
收藏
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浏览/下载:15/0
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提交时间:2016/11/28
Optical coatings
Interface characteristics
Laser irradiation
Peeling-off damage
Improved interface properties of an HfO2 gate dielectric GaAs MOS device by using SiNx as an interfacial passivation layer
期刊论文
Chinese Physics B, 2013, 卷号: 22, 期号: 9, 页码: 097301-1-097301-4
作者:
Zhu Shuyan
;
Xu Jingping
;
Wang Lisheng
;
Huang Yuan
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2019/12/04
GaAs metal-oxide-semiconductor (MOS) devices
silicon nitride
interlayer
post-deposition annealing
高性能紫外光学薄膜元件研制
学位论文
硕士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2013
作者:
李煦
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浏览/下载:22/0
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提交时间:2016/11/28
355 nm,激光损伤阈值,高反膜
Improved interface properties and reliability for Hf-In-Zn-O semiconductor capacitors with an electric-double-layer gate dielectric by inserting a HfO2 interlayer
期刊论文
THIN SOLID FILMS, 2013, 卷号: 540
作者:
Zou, Xiao
;
Fang, Guojia
;
Qin, Pingli
;
Wang, Hongjiu
;
Song, Zengcai
收藏
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浏览/下载:8/0
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提交时间:2019/12/05
Hf-In-Zn-O
Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors
Electric-Double-Layer
Hafnium Dioxide
Stack gate dielectrics
Reliability
Wet thermal annealing effect on TaN/HfO2/Ge metal-oxide-semiconductor capacitors with and without a GeO2 passivation layer
期刊论文
http://dx.doi.org/10.1088/1674-1056/21/11/117701, 2012
Liu Guan-Zhou
;
Li Cheng
;
Lu Chang-Bao
;
Tang Rui-Fan
;
Tang Meng-Rao
;
Wu Zheng
;
Yang Xu
;
Huang Wei
;
Lai Hong-Kai
;
Chen Song-Yan
;
陈松岩
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2013/12/12
GERMANIUM MOS CAPACITORS
ELECTRICAL-PROPERTIES
SURFACE PASSIVATION
HFO2 FILMS
SUBSTRATE
DEPOSITION
Wet thermal annealing effect on TaN/HfO2/Ge metal - Oxide - Semiconductor capacitors with and without a GeO2 passivation layer
期刊论文
http://dx.doi.org/10.1088/1674-1056/21/11/117701, 2012
Liu, Guan-Zhou
;
Li, Cheng
;
Lu, Chang-Bao
;
Tang, Rui-Fan
;
Tang, Meng-Rao
;
Wu, Zheng
;
Yang, Xu
;
Huang, Wei
;
Lai, Hong-Kai
;
Chen, Song-Yan
;
李成
;
黄巍
;
赖虹凯
;
陈松岩
收藏
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2015/07/22
Annealing
Dielectric devices
Dielectric materials
Electric properties
Germanium oxides
Hafnium oxides
Interface states
MOS capacitors
Passivation
Photoelectron spectroscopy
Transmission electron microscopy
Ta
2
O
5
薄膜的光学性质和抗激光损伤特性
学位论文
博士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2009
作者:
许程
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2016/11/28
光学性能
激光损伤阈值
退火
结构
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