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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Amazing diffusion depth of ultra-thin hafnium oxide film grown on n-type silicon by lower temperature atomic layer deposition 期刊论文 MATERIALS LETTERS, 2016, 卷号: 169, 页码: 164-167 作者:  Lu, QH;  Huang, R;  Lan, XL;  Chi, XW;  Lu, C 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2017/01/13 HfO2.  Hafnium silicide  Hafnium silicate  Diffusion depth  Tunnel contact   Hafnium interlayer method to improve the thermal stability of NiSi film 期刊论文 微电子工程, 2008 Yue, Xiong-wei; Zhang, Li-chun; Gao, Yu-zhi; Jin, Hai-yan 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2015/11/10 nickel silicide  thermal stability  agglomeration  diffusion barrier  phase change  Schottky diode  PHASE   Light emitting semiconductor device and method for fabricating same 专利 专利号: US20010038103A1, 申请日期: 2001-11-08, 公开日期: 2001-11-08 作者:  NITTA, KOICHI;  OKAZAKI, HARUHIKO;  MATSUNAGA, TOKUHIKO 收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2019/12/30