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HWCVD制备硅钨氧薄膜及阻变特性研究 学位论文
: 大连理工大学, 2018
作者:  王若颖
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Non-switching to switching transferring mechanism investigation for Ag/SiOx/p-Si structure with SiOx deposited by HWCVD 期刊论文
JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, 2018, 卷号: 51
作者:  Liu, Yanhong;  Wang, Ruoying;  Li, Zhongyue;  Wang, Song;  Huang, Yang
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TEOS的HWCVD法低温沉积氧化硅薄膜及其RRAM特性的研究 学位论文
: 大连理工大学, 2017
作者:  王嵩
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一种等离子体-热丝-偏压结合制备硅薄膜的装置及方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201310121151.8, 申请日期: 2015-11-01, 公开日期: 2014-10-15
作者:  李灿;  秦炜;  刘生忠;  王书博
收藏  |  浏览/下载：27/0  |  提交时间：2015/11/16
催化化学气相沉积制备硅薄膜及纳米材料的研究 学位论文
博士: 中国科学院研究生院, 2013
程士敏
收藏  |  浏览/下载：101/0  |  提交时间：2013/10/10
Density improvement of silicon nanocrystals embedded in silicon carbide matrix deposited by hot-wire CVD 期刊论文
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2013, 卷号: 228, 页码: 148-153
作者:  Bi, Kaifeng;  Liu, Yanhong;  Liu, Kun;  Jiang, Jiwen;  Peng, Wei
收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/12/11
纳米硅薄制备与纳米硅/单晶硅异质结特性 学位论文
: 大连理工大学, 2012
作者:  周哲
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HWCVD与RF-PECVD复合技术制备微晶硅薄膜的性能 期刊论文
中国表面工程, 2012, 卷号: 25, 页码: 84-88
作者:  孙晓飞;  张贵锋;  侯晓多;  冯煜东
收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/18
热丝化学气相沉积（HWCVD）中热丝直径对非晶硅薄膜沉积的影响 期刊论文
中国科技论文在线, 2011, 卷号: 11, 页码: 1-5
作者:  刘艳红;  孟祥宇
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DBD-HWCVD 沉积硅薄膜的研究 期刊论文
中国科技论文在线, 2011, 卷号: 13, 页码: 1-6
作者:  刘艳红
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