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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Oxidation precursor dependence of atomic layer deposited al2o3 films in a-si:h(i)/al2o3 surface passivation stacks 期刊论文 Nanoscale research letters, 2015, 卷号: 10, 期号: 1 作者:  Xiang,Yuren;  Zhou,Chunlan;  Jia,Endong;  Wang,Wenjing 收藏  |  浏览/下载：60/0  |  提交时间：2019/05/09 Atomic layer deposition  Al2o3  A-si:h(i)/al2o3 stack  Interface trap density