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兰州理工大学 [1]
兰州大学 [1]
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期刊论文 [3]
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2012 [2]
1997 [1]
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偏压对硅掺杂类金刚石碳膜力学及摩擦学性能的影响
期刊论文
摩擦学学报, 2012, 期号: 2012年06期, 页码: 634-640
作者:
杨保平
;
郑愉
;
张斌
;
张俊彦
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提交时间:2019/11/13
偏压
磁控溅射
Si-DLC
摩擦学性能
偏压对硅掺杂类金刚石碳膜力学及摩擦学性能的影响
期刊论文
摩擦学学报, 2012, 期号: 6, 页码: 634-640
作者:
杨保平
;
郑愉
;
张斌
;
张俊彦
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提交时间:2018/11/27
金属与金刚石薄膜接触的电学特性研究
期刊论文
物理学报/Wuli Xuebao/Acta Physica Sinica, 1997, 卷号: 46, 期号: 6, 页码: 5
作者:
陈光华
;
张兴旺
;
季亚英
;
严辉
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2015/04/27
金刚石薄膜:9452
电学特性:2076
接触特性:1421
掺杂金刚石薄膜:1060
欧姆接触:997
电阻率:840
载流子浓度:726
金刚石膜:634
指数分布:530
热平衡载流子:527
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