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大连化学物理研究所 [1]
上海应用物理研究所 [1]
内容类型
期刊论文 [6]
专利 [1]
发表日期
2015 [1]
2011 [1]
2005 [2]
2004 [2]
2002 [1]
学科主题
物理化学 [1]
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一种用于飞行时间质谱的磁控溅射团簇离子源
专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201310291516.1, 申请日期: 2015-11-01, 公开日期: 2015-01-14
作者:
唐紫超
;
秦正波
;
张世宇
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浏览/下载:58/0
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提交时间:2015/11/16
磁控溅射气体团簇源中团簇形成的DSMC研究
期刊论文
原子与分子物理学报, 2011, 期号: 6, 页码: 1032-1036
作者:
张连华
;
潘小东
;
李公平
;
王晓冬
;
柳学敏
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2016/07/18
DSMC方法
磁控溅射团簇源
团簇的尺寸
载能钼团簇束与单晶硅碰撞室温下合成二硅化钼
期刊论文
核技术, 2005, 期号: 03
李公平,张小东,丁宝卫,丁印锋,刘正民,朱德彰,张志滨,包良满
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浏览/下载:45/0
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提交时间:2012/07/04
钼团簇束
单晶硅
碰撞沉积
二硅化钼(MoSi2)
载能钼团簇束与单晶硅碰撞室温下合成二硅化钼
期刊论文
核技术, 2005, 卷号: 28, 期号: 3, 页码: 221-223
作者:
李公平
;
张小东
;
丁宝卫
;
丁印锋
;
刘正民
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2016/07/18
钼团簇束
单晶硅
碰撞沉积
二硅化钼(MoSi2)
铜团簇束在硅上碰撞沉积的薄膜形貌和方块电阻
期刊论文
兰州大学学报, 2004, 期号: 5, 页码: 31-33
作者:
李公平
;
何山虎
;
丁宝卫
;
张小东
;
丁印锋
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2015/04/27
铜团簇束沉积
单晶硅
薄膜形貌
薄膜方块电阻
铜团簇束在硅上碰撞沉积的薄膜表面能谱分析
期刊论文
原子与分子物理学报, 2004, 期号: 2, 页码: 191-194
作者:
李公平
;
丁宝卫
;
张小东
;
丁印锋
;
刘正民
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2016/07/18
铜团簇束
碰撞沉积
单晶硅
XPS谱
薄膜中的原子结合能
用于串列加速器的微团簇离子源研究
期刊论文
兰州大学学报/Lanzhou Daxue Xuebao/Journal of Lanzhou University, 2002, 卷号: 38, 期号: 5, 页码: 28-32
作者:
丁宝卫
;
李公平
;
张小东
;
赵力
;
刘正民
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2015/04/27
微团簇
气体放电
磁控溅射
液氮冷凝
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