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科研机构
半导体研究所 [3]
内容类型
期刊论文 [2]
会议论文 [1]
发表日期
2010 [1]
2004 [1]
2000 [1]
学科主题
光电子学 [3]
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学科主题:光电子学
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Evaluation of both composition and strain distributions in InGaN epitaxial film using x-ray diffraction techniques
期刊论文
chinese physics b, 2010, 卷号: 19, 期号: 10, 页码: art. no. 106802
Guo X (Guo Xi)
;
Wang H (Wang Hui)
;
Jiang DS (Jiang De-Sheng)
;
Wang YT (Wang Yu-Tian)
;
Zhao DG (Zhao De-Gang)
;
Zhu JJ (Zhu Jian-Jun)
;
Liu ZS (Liu Zong-Shun)
;
Zhang SM (Zhang Shu-Ming)
;
Yang H (Yang Hui)
收藏
  |  
浏览/下载:28/0
  |  
提交时间:2010/11/02
InGaN
In-plane grazing incidence x-ray diffraction
reciprocal space mapping
biaxial strain
CRITICAL LAYER THICKNESS
OPTICAL-PROPERTIES
LATTICE-CONSTANTS
GAN
HETEROSTRUCTURES
ALLOYS
WELLS
High-indium-content InxGa1-xAs/GaAs quantum wells with emission wavelengths above 1.25 mu m at room temperature
期刊论文
applied physics letters, 2004, 卷号: 84, 期号: 25, 页码: 5100-5102
作者:
Xu YQ
收藏
  |  
浏览/下载:219/54
  |  
提交时间:2010/03/09
CRITICAL LAYER THICKNESS
In situ annealing during the growth of relaxed SiGe
会议论文
conference on optical and infrared thin films, san diego, ca, 36739
Li DZ
;
Huang CJ
;
Cheng BW
;
Wang HJ
;
Yu Z
;
Zhang CH
;
Yu JZ
;
Wang QM
收藏
  |  
浏览/下载:14/0
  |  
提交时间:2010/10/29
Ultrahigh Vacuum Chemical Vapor Deposition
SiGe
Refractive High Energy Electron Diffraction
tansmission electron microscopy
Double Crystal X-Ray Diffraction
MOBILITY 2-DIMENSIONAL ELECTRON
CRITICAL THICKNESS
STRAINED LAYERS
GE
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