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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 专题：四川大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Approach of enhancing exposure depth for evanescent wave interference lithography 期刊论文 Microelectronic Engineering, 2010 作者:  Xiaoyun Niu;  Yuming Qi;  Jingquan Wang;  Zhiyou Zhang;  Jinglei Du 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/02/25 Interference lithography  Evanescent wave  SPPs  Exposure depth