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浏览/检索结果: 共10条，第1-10条 帮助 限定条件 专题：光电技术研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Moire-Based Absolute Interferometry With Large Measurement Range in Wafer-Mask Alignment 期刊论文 IEEE PHOTONICS TECHNOLOGY LETTERS, 2015, 卷号: 27, 期号: 4 作者:  Di, Chengliang;  Yan, Wei;  Hu, Song;  Yin, Didi;  Ma, Chifei 收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2015/07/10 Moire fringes  measurement range  wafer-mask alignment  lithography   Moiré-based absolute interferometry with large measurement range in wafer-mask alignment 期刊论文 IEEE Photonics Technology Letters, 2015, 卷号: 27, 期号: 4, 页码: 435-438 作者:  Di, Chengliang;  Yan, Wei;  Hu, Song;  Yin, Didi;  Ma, Chifei 收藏  |  浏览/下载：24/0  |  提交时间：2016/11/23 Moiré-based absolute interferometry with large measurement range in wafer-mask alignment 期刊论文 IEEE Photonics Technology Letters, 2015, 卷号: 27, 期号: 4, 页码: 435-438 作者:  Di, Chengliang;  Yan, Wei;  Hu, Song;  Yin, Didi;  Ma, Chifei 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2016/11/22 A Moire-Based Four-Channel Focusing and Leveling Scheme for Projection Lithography 期刊论文 IEEE PHOTONICS JOURNAL, 2014, 卷号: 6, 期号: 4 作者:  Di, Chengliang;  Yan, Wei;  Hu, Song;  Li, Yanli;  Yin, Didi 收藏  |  浏览/下载：24/0  |  提交时间：2015/07/10 Moire fringes  focusing and leveling  fringe analysis  lithography   Interferometric Scheme for High-Sensitivity Coaxial Focusing in Projection Lithography 期刊论文 IEEE PHOTONICS JOURNAL, 2014, 卷号: 6, 期号: 3 作者:  Di, Chengliang;  Hu, Song;  Yan, Wei;  Li, Yanli;  Li, Guang 收藏  |  浏览/下载：19/0  |  提交时间：2015/07/10 Interferometry  metrology  fringe analysis  phase unwrapping  lithography   A modified alignment method based on four-quadrant-grating moire for proximity lithography 期刊论文 OPTIK, 2014, 卷号: 125, 期号: 17, 页码: 4868-4872 作者:  Di, Chengliang;  Zhu, Jiangping;  Yan, Wei;  Hu, Song 收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2015/07/10 Coarse alignment  Fine alignment  Image processing  Moire fringe   A moiré-based four-channel focusing and leveling scheme for projection lithography 期刊论文 IEEE Photonics Journal, 2014, 卷号: 6, 期号: 4, 页码: 6842663 作者:  Di, Chengliang;  Yan, Wei;  Hu, Song;  Li, Yanli;  Yin, Didi 收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2016/11/23 Interferometric Scheme for High-Sensitivity Coaxial Focusing in Projection Lithography 期刊论文 IEEE PHOTONICS JOURNAL, 2014, 卷号: 6, 期号: 3 作者:  Di, Chengliang;  Hu, Song;  Yan, Wei;  Li, Yanli;  Li, Guang 收藏  |  浏览/下载：13/0  |  提交时间：2016/11/23 A modified alignment method based on four-quadrant-grating moiré for proximity lithography 期刊论文 Optik, 2014, 卷号: 125, 期号: 17, 页码: 4868-4872 作者:  Di, Chengliang;  Zhu, Jiangping;  Yan, Wei;  Hu, Song 收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2016/11/23 Technology of focus detection for 193nm projection lithographic tool 会议论文 Proceedings of SPIE: 6th International Symposium on Advanced Optical Manufacturing and Testing Technologies: Design, Manufacturing, and Testing of Smart Structures, Micro- and Nano-Optical Devices, and Systems, 2012 作者:  Di, Chengliang;  Yan, Wei;  Hu, Song;  Xu, Feng;  Li, Jinglong 收藏  |  浏览/下载：8/0  |  提交时间：2016/11/24