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浏览/检索结果: 共6条，第1-6条 帮助 限定条件 专题：光电技术研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Fabrication of circular microstructure array based on a controlled diffractive pattern 期刊论文 MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2014, 卷号: 115, 页码: 13-15 作者:  Li, Shuhong;  Du, Jinglei;  Zhang, Zhiyou;  Gao, Fuhua;  Gao, Hongtao 收藏  |  浏览/下载：13/0  |  提交时间：2015/07/10 Lithography  Circular microstructure  Diffractive pattern   Fabrication of circular microstructure array based on a controlled diffractive pattern 期刊论文 Microelectronic Engineering, 2014, 卷号: 115, 页码: 13-15 作者:  Li, Shuhong;  Du, Jinglei;  Zhang, Zhiyou;  Gao, Fuhua;  Gao, Hongtao 收藏  |  浏览/下载：13/0  |  提交时间：2016/11/23 Immersed nanospheres super-lithography for the fabrication of sub-70nm nanoholes with period below 700nm 会议论文 2012 12th IEEE International Conference on Nanotechnology, NANO 2012, 2012 作者:  Li, Shuhong;  Shi, Lifang;  Yang, Zheng;  Huang, Xia;  Zhang, Zhiyou 收藏  |  浏览/下载：13/0  |  提交时间：2016/11/24 A composite hardness stamp in 184 PDMS for nanostructures transfer in high fidelity 会议论文 2012 12th IEEE International Conference on Nanotechnology, NANO 2012, 2012 作者:  Li, Shuhong;  Shi, Lifang;  Yang, Zheng;  Huang, Xia;  Zhang, Zhiyou 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2016/11/24 Experimental analysis of solid immersion interference lithography based on backside exposure technique 期刊论文 MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2011, 卷号: 88, 期号: 8, 页码: 2509-2512 作者:  Li, Xupeng;  Shi, Sha;  Zhang, Zhiyou;  Wang, Jingquan;  Li, Shuhong 收藏  |  浏览/下载：9/0  |  提交时间：2015/09/21 Solid immersion  Interference lithography  Backside exposure technique   Analysis of fabricating arbitrary nanoscale patterns by LSPP direct writing lithography with two-dimensional metal hole-array 期刊论文 MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2011, 卷号: 88, 期号: 8, 页码: 1931-1934 作者:  Shi, Sha;  Zhang, Zhiyou;  Shi, Ruiying;  Niu, Xiaoyun;  Li, Shuhong 收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2015/09/21 TMH  Local surface plasmon polariton  Parallel direct writing lithography