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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 限定条件 专题：北京大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Modifying residual stress and stress gradient in LPCVD Si3N4 film with ion implantation 其他 2006-01-01 Shi, Wendian; Zhang, Haixia; Zhang, Guobing; Li, Zhihong 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2015/11/12 LPCVD Si3N4  residual stress  stress gradient  ion implantation  thermal annealing  INTERNAL-STRESS  THIN-FILMS   Modifying residual stress and stress gradient in LPCVD Si3N4 film with ion implantation 期刊论文 Sensors and Actuators, A: Physical, 2006 Shi, Wendian; Zhang, Haixia; Zhang, Guobing; Li, Zhihong 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2017/12/03 Modifying residual stress and stress gradient in LPCVD SI3N 4 film with ion implantation 其他 2005-01-01 Shi, Wendian; Zhang, Haixia; Wang, Shasha; Zhang, Guobing; Li, Zhihong 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2015/11/13