QQ客服 官方微博 反馈留言

浏览/检索结果: 共6条，第1-6条 帮助 限定条件 发表日期：2016    专题：上海应用物理研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Optimization of the design for beamline with fast polarization switching elliptically polarized undulators 期刊论文 JOURNAL OF SYNCHROTRON RADIATION, 2016, 卷号: 23, 期号: -, 页码: 436—442 作者:  Cao, JF;  Wang, Y;  Zou, Y;  Zhang, XZ;  Wu, YQ 收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2016/09/12 TWIN-HELICAL UNDULATOR  X-RAY BEAMLINE  SYNCHROTRON-RADIATION  INSERTION DEVICES  BESSY-II  SPRING-8  RESOLUTION   Chromium immobilization by extra- and intraradical fungal structures of arbuscular mycorrhizal symbioses 期刊论文 JOURNAL OF HAZARDOUS MATERIALS, 2016, 卷号: 316, 页码: 34-42 作者:  Wu, SL;  Zhang, X;  Sun, YQ;  Wu, ZX;  Li, T 收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2017/03/02 Arbuscular mycorrhizal fungi  Chromium  SEM-EDS  STXM  XAFS   Development of broadband X-ray interference lithography large area exposure system 期刊论文 REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 2016, 卷号: 87, 期号: 4, 页码: — 作者:  Xue, CF;  Wu, YQ;  Zhu, FY;  Yang, SM;  Liu, HG 收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2016/09/12 INTERFEROMETRIC LITHOGRAPHY  HIGH-RESOLUTION  FABRICATION  ARRAYS  GRIDS  LIGHT   STEM-EDS analysis of fission products in neutron-irradiated TRISO fuel particles from AGR-1 experiment 期刊论文 JOURNAL OF NUCLEAR MATERIALS, 2016, 卷号: 475, 期号: -, 页码: 62—70 作者:  Leng, B;  van Rooyen, IJ;  Wu, YQ;  Szlufarska, I;  Sridharan, K 收藏  |  浏览/下载：13/0  |  提交时间：2016/09/12 SILICON-CARBIDE  AG DIFFUSION  COATED PARTICLES  SILVER DIFFUSION  IDENTIFICATION  TRANSPORT  PALLADIUM  RELEASE  PD   Guided-mode resonance assisted directional emission of a wavelength-shifting film for application in scintillation detection 期刊论文 OPTICS EXPRESS, 2016, 卷号: 24, 期号: 1, 页码: 231—238 作者:  Wu, S;  Liu, B;  Zhu, ZC;  Cheng, CW;  Chen, H 收藏  |  浏览/下载：26/0  |  提交时间：2016/09/12 LIGHT-EMITTING-DIODES  BOWTIE NANOANTENNA  NEAR-FIELD  EXTRACTION  LAYER  NANOAPERTURE  ENHANCEMENT  GRATINGS   Patterning of nanodot-arrays using EUV achromatic Talbot lithography at the Swiss Light Source and Shanghai Synchrotron Radiation Facility 期刊论文 MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2016, 卷号: 155, 页码: 55-60 作者:  Fan, D;  Buitrago, E;  Yang, SM;  Karim, W;  Wu, YQ 收藏  |  浏览/下载：13/0  |  提交时间：2017/03/02 EUV  Interference lithography  High resolution  Nano-lithography  Achromatic Talbot lithography