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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 专题：复旦大学上海医学院    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Atomic layer deposition of titanium nitride from TDMAT precursor 期刊论文 MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2009, 卷号: 86, 期号: 1 作者:  Musschoot, J.;  Xie, Q.;  Deduytsche, D.;  Van den Berghe, S.;  Van Meirhaeghe, R. L. 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/12/19 Atomic layer deposition  Titanium nitride  Copper diffusion barrier  In-situ XRD