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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 专题：上海微系统与信息技术研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Investigation of the extinction coefficient of PECVD hydrogenated amorphous silicon nitride films 期刊论文 JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING, 2008, 卷号: 18, 期号: 8, 页码: 85001-85001 Yan, X; Feng, F; Yang, GL; Wang, YL 收藏  |  浏览/下载：19/0  |  提交时间：2011/12/17 CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION  THIN-FILMS  PLASMA  ABSORPTION  MIXTURES  MODEL   High surface area anatase titania nanoparticles prepared by MOCVD 期刊论文 MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY, 2001, 卷号: 86, 期号: 3, 页码: 185-188 Sun, YJ; Li, AZ; Qi, M; Zhang, LY; Yao, X 收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2012/03/24 CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION  GAN BUFFER LAYER  PHASE-TRANSFORMATION  TIO2  HYDROLYSIS  GROWTH  THERMOPHORESIS  EVOLUTION  SUBSTRATE  MEMBRANES   Molecular dynamics simulation of C2H2 deposition on diamond (001)-(2x1) surface 期刊论文 EUROPEAN PHYSICAL JOURNAL D, 1999, 卷号: 5, 期号: 1, 页码: 83-88 Zhu, WJ; Pan, ZY; Ho, YK; Man, ZY 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2012/03/25 CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION  GROWTH-MECHANISM  PLASMA  PRESSURE  METHYL  ENERGY  CVD   SINGLE-CRYSTALLINE DIAMOND FILM GROWTH 期刊论文 JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 1993, 卷号: 129, 期号: 3-4, 页码: 774-776 WANG, QM; CHEN, QG; SHI, RH; ZHU, WB; DONG, QW; DONG, RK 收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2012/03/25 CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION  PLASMA