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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 专题：西安交通大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 The properties of N-doped diamond-like carbon films prepared by helicon wave plasma chemical vapor deposition 期刊论文 PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY, 2019, 卷号: 21 作者:  Chen, Jiali;  Ji, Peiyu;  Jin, Chenggang;  Zhuge, Lanjian;  Wu, Xuemei 收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2019/11/19 helicon wave plasma  friction coefficient  Young's modulus  N-doped DLC   Control of Ion Species and Energy in High-Flux Helicon-Wave-Excited Plasma Using Ar/N-2 Gas Mixtures 期刊论文 IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE, 2018, 卷号: 46, 页码: 895-899 作者:  Huang, Tianyuan;  Jin, Chenggang;  Yang, Yan;  Wu, Xuemei;  Zhuge, Lanjian 收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2019/11/26 Helicon-wave-excited plasma (HWP)  high-flux atomic nitrogen ion  ion energy distributions   Development of a helicon-wave excited plasma facility with high magnetic field for plasma-wall interactions studies 期刊论文 PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY, 2018, 卷号: 20 作者:  Zhang, Guilu;  Huang, Tianyuan;  Jin, Chenggang;  Wu, Xuemei;  Zhuge, Lanjian 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/11/26 wall conditioning  helicon wave plasma  high magnetic field   One-Step Synthesis of Silicon Oxynitride Films Using a Steady-State and High-Flux Helicon-Wave Excited Nitrogen Plasma 期刊论文 PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING, 2017, 卷号: 37, 页码: 1237-1247 作者:  Huang, Tianyuan;  Jin, Chenggang;  Yu, Jun;  Yang, Yan;  Zhuge, Lanjian 收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2019/11/26 XPS  Mixture compositions  Silicon oxynitride (SiON) films  Ion energy distributions  Nitrogen helicon plasma