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浏览/检索结果: 共36条，第1-10条 帮助 限定条件 专题：清华大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 铜表面划痕过程声发射特性 期刊论文 2016, 2016 余前程; 何永勇; YU Qian-cheng; HE Yong-yong 收藏  |  浏览/下载：152/0 300mm晶圆化学机械抛光机关键技术研究与实现 期刊论文 2016, 2016 王同庆; 路新春; 赵德文; 门延武; 何永勇; WANG Tongqing; LU Xinchun; ZHAO Dewen; MEN Yanwu; HE Yongyong 收藏  |  浏览/下载：7/0 爬壁机器人高效焊缝修形方法 期刊论文 2016, 2016 崔宗伟; 孙振国; 张文增; 陈强; CUI Zongwei; SUN Zhenguo; ZHANG Wenzeng; CHEN Qiang 收藏  |  浏览/下载：3/0 混凝-纳滤集成工艺深度处理脱墨废水 期刊论文 2016, 2016 任晓晶; 刘丹; 吴月; 张忠国; 张凤山; 程言君; 李继定; Ren Xiaojing; Liu Dan; Wu Yue; Zhang Zhongguo; Zhang Fengshan; Cheng Yanjun; Li Jiding 收藏  |  浏览/下载：7/0 Inhibitors for organic phosphonic acid system abrasive free polishing of Cu 期刊论文 2010, 2010 Zhang, Wei; Lu, Xinchun; Liu, Yuhong; Pan, Guoshun; Luo, Jianbin 收藏  |  浏览/下载：3/0 Effect of pH on Material Removal Rate of Cu in Abrasive-Free Polishing 期刊论文 2010, 2010 Zhang Wei; Lu Xinchun; Liu Yuhong; Pan Guoshun; Luo Jianbin 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2017/06/15 HYDROGEN-PEROXIDE  IMPEDANCE SPECTROSCOPY  COMPLEXING AGENTS  FUNCTIONAL-GROUPS  CITRIC-ACID  COPPER  SLURRIES  CMP  MODEL  Electrochemistry  Materials Science, Coatings & Films   High-speed EDM milling with moving electric arcs 期刊论文 2010, 2010 Han, Fuzhu; Wang, Yongxain; Zhou, Ming 收藏  |  浏览/下载：2/0 Adaptive control for EDM process with a self-tuning regulator 期刊论文 2010, 2010 Zhou, Ming; Han, Fuzhu 收藏  |  浏览/下载：7/0 计算机硬盘基片CMP镍磷材料的去除机理 会议论文 第八届全国摩擦学大会论文集, 第八届全国摩擦学大会, 中国广东广州, CNKI, 中国机械工程学会摩擦学分会 胡波; 李维民; 黄雅婷; 赵艳; Hu bo; WeiMing Leet; Huang Yating; Zhao Yan 收藏  |  浏览/下载：4/0 氨基乙酸-H_2O_2体系抛光液中铜的化学机械抛光研究 会议论文 第八届全国摩擦学大会论文集, 第八届全国摩擦学大会, 中国广东广州, CNKI, 中国机械工程学会摩擦学分会 张伟; 路新春; 刘宇宏; 雒建斌; ZHANG Wei; LU Xinchun; LIU Yuhong; LUO Jianbin 收藏  |  浏览/下载：6/0