QQ客服 官方微博 反馈留言

浏览/检索结果: 共5条，第1-5条 帮助 限定条件 学科主题：Physics, Applied     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Temperature- and field-dependent leakage current of epitaxial YMnO3/GaN heterostructure 期刊论文 APPLIED PHYSICS LETTERS, 2009, 卷号: 94, 期号: 12, 页码: 122904-122904 Wu, H; Yuan, J; Peng, T; Pan, Y; Han, T; Liu, C 收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2012/03/24 THIN-FILMS  ELECTRICAL-PROPERTIES  GROWTH  ELECTRODES  CAPACITORS  SCHOTTKY  SOLIDS   Processing and properties of Yb-doped BiFeO3 ceramics 期刊论文 APPLIED PHYSICS LETTERS, 2007, 卷号: 91, 期号: 8, 页码: 82906-82906 Yan, Z; Wang, KF; Qu, JF; Wang, Y; Song, ZT; Feng, SL 收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2012/03/24 THIN-FILMS  FERROELECTRICITY  CAPACITORS   High frequency capacitance-voltage characterization of Al2O3/ZrO2/Al2O3 in fully depleted silicon-on-insulator metal-oxide-semiconductor capacitors 期刊论文 APPLIED PHYSICS LETTERS, 2003, 卷号: 83, 期号: 25, 页码: 5238-5240 Zhang, NL; Song, ZT; Shen, QW; Wu, YJ; Liu, QB; Lin, CL; Duo, XZ; Zheng, LR; Ding, YF; Zhu, ZQ 收藏  |  浏览/下载：9/0  |  提交时间：2012/03/24 ZRO2/SIO2/SI LAYERED STRUCTURE  THERMAL-STABILITY  MOS CAPACITORS  FILM  ZRO2  DIELECTRICS  HFO2   Stress current calculation of stacked dielectrics in time dependent dielectric breakdown 期刊论文 JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2003, 卷号: 94, 期号: 6, 页码: 4032-4035 Yang, WW; Cheng, XH; Xing, YM; Li, WJ; Yu, YH 收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2012/03/24 TUNNELING CURRENTS  OXIDE THICKNESS  LEAKAGE CURRENT  MOS CAPACITORS  MODEL  INTERFACES  SIO2   Growth and ferroelectric properties of strontium bismuth tantalite thin films using pulsed laser deposition combined with an annealing process 期刊论文 JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, 1997, 卷号: 30, 期号: 4, 页码: 527-532 Yang, PX; Zhou, NS; Zheng, LR; Lu, HX; Lin, CL 收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2012/03/25 FATIGUE  CAPACITORS  ABLATION