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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 学科主题：微电子学    专题：半导体研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Influence of nitrogen dose on the charge density of nitrogen-implanted buried oxide in SOI wafers 期刊论文 journal of semiconductors, 2010, 卷号: 31, 期号: 2, 页码: 99-102 Zheng Zhongshan; Liu Zhongli; Li Ning; Li Guohua; Zhang Enxia 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2011/08/16 Effect of implantation of nitrogen into SIMOX buried oxide on its fixed positive charge density 期刊论文 acta physica sinica, 2007, 卷号: 56, 期号: 9, 页码: 5446-5451 Zheng, ZS (Zheng Zhong-Shan); Zhang, EX (Zhang En-Xia); Liu, ZL (Liu Zhong-Li); Zhang, ZX (Zhang Zheng-Xuan); Li, N (Li Ning); Li, GH (Li Guo-Hua) 收藏  |  浏览/下载：34/0  |  提交时间：2010/03/29 SIMOX   Sensitivity of Total-Dose Radiation Hardness of SIMOX Buried Oxides to Doses of Nitrogen Implantation into Buried Oxides 期刊论文 半导体学报, 2005, 卷号: 26, 期号: 5, 页码: 862-866 Zheng Zhongshan; Liu Zhongli; Zhang Guoqiang; Li Ning; Li Guohua; Ma Hongzhi; Zhang Enxia; Zhang Zhengxuan; Wang Xi 收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2010/11/23 Improvement of the radiation hardness of SIMOX buried layers using nitrogen implantation 期刊论文 semiconductor science and technology, 2005, 卷号: 20, 期号: 6, 页码: 481-484 Zheng ZS; Liu ZL; Zhang GQ; Li N; Li GH; Ma HZ; Zhang EX; Zhang ZX; Wang X 收藏  |  浏览/下载：32/5  |  提交时间：2010/03/17 OXIDES