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科研机构
半导体研究所 [5]
内容类型
期刊论文 [5]
发表日期
2010 [1]
2006 [1]
2004 [1]
1996 [2]
学科主题
半导体材料 [5]
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学科主题:半导体材料
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Origin of flat-band voltage sharp roll-off in metal gate/high-k/ultrathin- SiO2/Si p-channel metal-oxide-semiconductor stacks
期刊论文
applied physics letters, 2010, 卷号: 97, 期号: 13, 页码: art. no. 132908
Zheng XH (Zheng X. H.)
;
Huang AP (Huang A. P.)
;
Xiao ZS (Xiao Z. S.)
;
Yang ZC (Yang Z. C.)
;
Wang M (Wang M.)
;
Zhang XW (Zhang X. W.)
;
Wang WW (Wang W. W.)
;
Chu PK (Chu Paul K.)
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2010/11/14
OXYGEN
GATE
DIFFUSION
FILMS
XPS depth profiling study of n/TCO interfaces for p-i-n amorphous silicon solar cells
期刊论文
applied surface science, 2006, 卷号: 253, 期号: 3, 页码: 1677-1682
Sheng SR (Sheng Shuran)
;
Hao HY (Hao Huiying)
;
Diao HW (Diao Hongwei)
;
Zeng XB (Zeng Xiangbo)
;
Xu Y (Xu Ying)
;
Liao XB (Liao Xianbo)
;
Monchesky TL (Monchesky Theodore L.)
收藏
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浏览/下载:54/0
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提交时间:2010/03/29
amorphous silicon
Growth of crack-free GaN films on Si(111) substrate by using Al-rich AlN buffer layer
期刊论文
journal of applied physics, 2004, 卷号: 96, 期号: 9, 页码: 4982-4988
Lu Y
;
Cong GW
;
Liu XL
;
Lu DC
;
Zhu QS
;
Wang XH
;
Wu JJ
;
Wang ZG
收藏
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浏览/下载:78/29
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提交时间:2010/03/09
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
A new structure of In-based ohmic contacts to n-type GaAs
期刊论文
applied physics a-materials science & processing, 1996, 卷号: 62, 期号: 3, 页码: 241-245
Ding SA
;
Hsu CC
收藏
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2010/11/17
MICROSTRUCTURE
Aggregation and precipitation in high dose as ion implanted Ge0.5Si0.5 alloy
期刊论文
nuclear instruments & methods in physics research section b-beam interactions with materials and atoms, 1996, 卷号: 119, 期号: 4, 页码: 510-514
Fan TW
;
Zou LF
;
Wang ZG
;
Hemment PLF
;
Greaves SJ
;
Watts JF
收藏
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浏览/下载:19/0
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提交时间:2010/11/17
ELECTRICAL-PROPERTIES
SI0.5GE0.5 ALLOY
LAYERS
HETEROSTRUCTURES
SB
SUPERLATTICES
DIFFUSION
REGROWTH
SILICON
SI
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