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浏览/检索结果: 共8条，第1-8条 帮助 限定条件 学科主题：光学薄膜     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 热舟蒸发LaF_3薄膜的紫外性能研究 期刊论文 物理学报, 2008, 卷号: 57, 期号: 3, 页码: 1941, 1945 尚淑珍; 邵建达; 范正修; 赵祖欣 收藏  |  浏览/下载：1368/225  |  提交时间：2009/09/22 optical film  depositing temperature  LaF3  optical loss   高真空室中的水蒸气对HfO2薄膜性能的影响 期刊论文 Chin. Opt. Lett., 2007, 卷号: 5, 期号: 8, 页码: 487, 489 凌波; 贺洪波; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：761/92  |  提交时间：2009/09/22 薄膜  水蒸气  光学性能  激光损伤  Electron beams  Evaporation  Laser damage  Microstructure  Optical properties  Physical properties  Q switched lasers  Refractive index  Spectrophotometers  Water vapor  X ray diffraction analysis   Mo原子溅射能量对Mo／Si薄膜微结构的影响 期刊论文 功能材料与器件学报, 2006, 卷号: 12, 期号: 2, 页码: 81, 85 秦俊岭; 易葵; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：696/143  |  提交时间：2009/09/22 Mo／Si  MoSi2  溅射能量   不同氧分压下电子束蒸发氧化锆薄膜的特性 期刊论文 光电工程, 2006, 卷号: 33, 期号: 6, 页码: 37 张东平; 邵淑英; 黄建兵; 占美琼; 范正修; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：628/82  |  提交时间：2009/09/22 氧化锆薄膜  氧分压  表面迁移率  薄膜特性   制备工艺条件对薄膜微结构的影响 期刊论文 中国激光, 2006, 卷号: 33, 期号: 5, 页码: 673, 678 田光磊; 申雁鸣; 沈健; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：817/83  |  提交时间：2009/09/22 薄膜  X射线衍射  晶相结构  迁移率  扩散激活能   不同沉积参量下ZrO_2薄膜的微结构和激光损伤阈值 期刊论文 光学学报, 2005, 卷号: 25, 期号: 7, 页码: 994, 998 马平; 陈松林; 胡建平; 胡江川; 段立华; 王震; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：506/95  |  提交时间：2009/09/22 薄膜光学  ZrO2薄膜  X射线衍射  氧压  基体温度  激光损伤  thin film optics  ZrO2 thin film  X-ray diffraction  oxygen partial pressure  substrate temperature  laser damage   退火对ZrO2薄膜微结构及激光损伤阈值的影响 期刊论文 强激光与粒子束, 2005, 卷号: 17, 期号: 2, 页码: 217, 221 田光磊; 黄建兵; 贺洪波; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：635/158  |  提交时间：2009/09/22 退火  Annealing  ZrO2薄膜  ZrO2 coatings  激光损伤阈值  Laser-induced damage threshold  X射线衍射  XRD  弱吸收  Weak absorption   退火对电子束热蒸发Al2O3薄膜性能影响的实验研究 期刊论文 强激光与粒子束, 2005, 卷号: 17, 期号: 4, 页码: 511, 514 尚淑珍; 廖春艳; 易葵; 张东平; 范正修; 邵建达 收藏  |  浏览/下载：428/64  |  提交时间：2009/09/22 紫外  Ultraviolet  退火  Annealing  微结构  Microstructure  光学损耗  Optical loss  吸收  Absorption