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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 限定条件 发表日期：2018    专题：光电技术研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Determination of refractive index and thickness of YbF3 thin films deposited at different bias voltages of APS ion source from spectrophotometric methods 期刊论文 ADVANCED OPTICAL TECHNOLOGIES, 2018, 卷号: 7, 期号: 1-2, 页码: 33-37 作者:  Zhang, Yinhua;  Xiong, Shengming;  Huang, Wei;  Zhang, Kepeng 收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2019/08/23 Bias Voltage  Refractive Index  Transmittance Spectra  Ybf3 Thin Film   Surface imaging microscopy with tunable penetration depth as short as 20 nm by employing hyperbolic metamaterials 期刊论文 JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C, 2018, 卷号: 6, 期号: 7, 页码: 1797-1805 作者:  Kong, Weijie;  Du, Wenjuan;  Liu, Kaipeng;  Liu, Hongchao;  Zhao, Zeyu 收藏  |  浏览/下载：33/0  |  提交时间：2019/08/23 Cell membranes  Fluorescence   Gas Flow Simulation Research on Reaction Chamber of Reactive ion etching 会议论文 Chengdu, PEOPLES R CHINAChengdu, PEOPLES R CHINA, JUN 26-29, 2018JUN 26-29, 2018 作者:  Zhang Jingwen;  Fan Bin;  Li Zhiwei;  Liu Xin;  Li Bincheng 收藏  |  浏览/下载：27/0  |  提交时间：2019/08/23 reactive ion etching  Fluent(Ansys)  numerical simulation  pressure distribution