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一种808nm激发、Li+掺杂KGdF4:Nd3+纳米发光材料及其制备方法 专利
专利号: CN106978179A, 申请日期: 2017-07-25, 公开日期: 2017-07-25
作者:  王友法;  罗蕾;  戴红莲
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Cr,Nd:GSAG晶体生长、光谱及LD泵浦激光性能研究 期刊论文
人工晶体学报, 2017, 卷号: 046
作者:  许晋瑞;  张庆礼;  彭方;  王小飞;  窦仁勤
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