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浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 限定条件 发表日期：2016    内容类型：会议论文     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Epitaxial growth of copper film by MOCVD 会议论文 6th Annual Meeting on Testing and Evaluation of Advanced Materials, TEIM 2015, Chengdu, China, April 23, 2015 - April 25, 2015 作者:  Tu, Rong;  Huang, Jin;  Zhang, Song;  Zhang, Lianmeng 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/04 Atomistic study of the copper cluster deposition on Si(001) and Si(111) surface 会议论文 Chinese Materials Congress on Methods of Design and Characterization of Materials, Research and Development of Technological Processes, 2015, Guiyang, China, July 10, 2015 - July 14, 2015 作者:  Gong, Hengfeng;  Li, Gongping;  Zhang, Shixu;  Lu, Wei;  Wang, Lumin 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2017/01/20 Silicon  Characterization  Deposition  Film growth  Interfaces (materials)  Mixing  Molecular dynamics  Morse potential  Silicides  Substrates  Surface segregation  Cluster  Cluster deposition  Crystallographic orientations  Epitaxial relations  Film-substrate interfaces  Molecular dynamics simulations  Silicide formation  Silicon segregation