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西安光学精密机械研究... [4]
微电子研究所 [1]
内容类型
专利 [5]
发表日期
2016 [5]
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共5条,第1-5条
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发表日期:2016
内容类型:专利
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Lithography apparatus, patterning device, and lithographic method
专利
专利号: US20160266498A1, 申请日期: 2016-09-15, 公开日期: 2016-09-15
作者:
DE JAGER, PIETER WILLEM HERMAN
;
VAN DER WERF, ROBERT ALBERTUS JOHANNES
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提交时间:2020/01/18
亚波长极紫外金属透射光栅及其制作方法
专利
专利号: US9442230, 申请日期: 2016-09-13, 公开日期: 2014-06-26
作者:
李海亮
;
谢常青
;
刘明
;
李冬梅
;
史丽娜
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提交时间:2017/06/09
Semiconductor device and fabrication method
专利
专利号: US9401404, 申请日期: 2016-07-26, 公开日期: 2016-07-26
作者:
LIU, HUIYUN
;
SEEDS, ALWYN JOHN
;
POZZI, FRANCESCA
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提交时间:2020/01/18
Endoscope device
专利
专利号: WO2016084201A1, 申请日期: 2016-06-02, 公开日期: 2016-06-02
作者:
DAIDOJI, BAKUSUI
;
YAMAMOTO, EIJI
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提交时间:2019/12/31
Pointing devices, apparatus, systems and methods for high shock environments
专利
专利号: US9270082, 申请日期: 2016-02-23, 公开日期: 2016-02-23
作者:
BOWMAN, ORVAL, E.
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提交时间:2019/12/23
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