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| 一种基于紫外光刻工艺的深亚微米刻蚀槽制作方法 专利
专利号: CN102738698A, 申请日期: 2012-10-17, 公开日期: 2012-10-17
作者: 王磊; 邹立; 何建军
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| 一种采用单次电子束曝光制备T型栅的方法 专利
专利号: CN102509704A, 申请日期: 2012-06-20, 公开日期: 2012-06-20
作者: 王显泰 ; 钟英辉; 金智; 汪宁
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| 一种采用X射线曝光制作声表面波器件的方法 专利
专利号: CN200810222328.2, 申请日期: 2012-05-23, 公开日期: 2010-03-24
作者: 李晶晶; 牛洁斌; 朱效立; 刘明; 赵以贵
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| 用于电子束参数测量的高速分幅相机 期刊论文
http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=GDGC200605022&dbname=CJFQ2006, 2012, 2012
江孝国; 郭宝平; 邓建军; 牛憨笨; 单宝忠; 张开志; 石金水
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| 用于电子束参数测量的高速分幅相机 期刊论文
http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=GDGC200605022&dbname=CJFQ2006, 2012, 2012
江孝国; 郭宝平; 邓建军; 牛憨笨; 单宝忠; 张开志; 石金水
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| 金属钼薄片的355nm激光加工 会议论文
翟立斌; 赵宏亮; 蒋茂华; 赵莹; 陈继民
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| 在厚负性高分辨率电子束抗蚀剂HSQ上制作密集图形的方法 专利
专利号: CN200810116381.4, 申请日期: 2012-03-21, 公开日期: 2010-01-13
作者: 陈宝钦; 刘明; 赵珉; 朱效立
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| 曝光电子束正性抗蚀剂的方法 专利
申请日期: 2012-02-17,
作者: 徐秋霞; 牛洁斌; 周华杰
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| 一种电子束光刻加工圆形阵列的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN 101916038 B, 申请日期: 2012-01-25, 公开日期: 2012-09-25
作者: 董艳; 时文华; 曾春红; 王逸群
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