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科研机构
大连理工大学 [2]
西安光学精密机械研究... [2]
内容类型
专利 [4]
发表日期
2010 [4]
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共4条,第1-4条
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发表日期:2010
内容类型:专利
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Laser processing method
专利
专利号: USR41690, 申请日期: 2010-09-14, 公开日期: 2010-09-14
作者:
ZHANG, HONGYONG
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提交时间:2019/12/23
Monolithically-pumped erbium-doped waveguide amplifiers and lasers
专利
专利号: US7655489, 申请日期: 2010-02-02, 公开日期: 2010-02-02
作者:
HALL, DOUGLAS
;
HUANG, MINGJUN
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提交时间:2019/12/24
Preparation method of copper film involves adding carbon to copper film to form self-blunting non-crystal layer to which effectively prevent scattering process of copper-silicon then annealing in vacuum state.
专利
申请日期: 2010-01-01, 公开日期: 2010-06-23
作者:
DONG C LI X NIE L
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提交时间:2019/12/24
Silicon photoelectric diode manufacturing method, involves carrying low temperature annealing to wafer to form ohmic contact between silicon material of device layer and positive and negative electrodes of upper surface.
专利
申请日期: 2010-01-01, 公开日期: 2010-05-26
作者:
CHU J HAN Z MENG F WANG Z
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提交时间:2019/12/24
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