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科研机构
上海微系统与信息技术... [8]
内容类型
期刊论文 [6]
学位论文 [2]
发表日期
2007 [8]
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发表日期:2007
专题:上海微系统与信息技术研究所
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干法刻蚀和离子注入影响III-V族半导体量子阱发光特性研究
学位论文
博士, 上海微系统与信息技术研究所: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所, 2007
曹萌
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浏览/下载:108/0
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提交时间:2012/03/06
干法刻蚀
离子注入
光致发光
气态源分子束外延
量子阱
微型直接甲醇燃料电池的研究进展
期刊论文
电池, 2007, 期号: 01
王哲津
;
石荣
;
王连卫
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2012/01/06
绝缘体上硅
离子注入
总剂量辐射效应
阈值电压漂移
光电导开关产生太赫兹电磁波双极特性分析
期刊论文
物理学报, 2007, 期号: 07
贾婉丽
;
施卫
;
纪卫莉
;
马德明
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2012/01/06
垂直腔面发射激光器
离子注入
退火
Improvement of the radiation hardness of SIMOX buried oxides by silicon ion implantation
期刊论文
HIGH ENERGY PHYSICS AND NUCLEAR PHYSICS-CHINESE EDITION, 2007, 卷号: 31, 期号: 4, 页码: 388-390
He, W
;
Zhang, ZX
;
Zhang, EX
;
Qian, C
;
Tian, H
;
Wang, X
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浏览/下载:8/0
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提交时间:2012/03/24
Effect of implantation of nitrogen into SIMOX buried oxide on its fixed positive charge density
期刊论文
ACTA PHYSICA SINICA, 2007, 卷号: 56, 期号: 9, 页码: 5446-5451
Zheng, ZS
;
Zhang, EX
;
Liu, ZL
;
Zhang, ZX
;
Li, N
;
Li, GH
收藏
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2012/03/24
IMPLANTING NITROGEN
RADIATION HARDNESS
SOI TECHNOLOGIES
IMPROVEMENT
LAYER
ION
Effect of implantation dose and annealing time on the formation of si nanocrystals embedded in thermal oxide
期刊论文
Ion-Beam-Based Nanofabrication, 2007, 卷号: 1020, 页码: 195-200
Qian, C
;
Zhang, ZX
;
Zhang, F
;
Lin, CL
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2012/03/24
SILICON
PHOTOLUMINESCENCE
NANOCLUSTERS
HOLE
Research on ion implantation effect on SIMOX material modification technique by X-ray photoelectron spectroscopy
期刊论文
NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2007, 卷号: 257, 页码: 199-202
Zhanga, EX
;
Zhang, ZX
;
Chen, J
;
Song, ZR
;
Yang, H
;
He, W
;
Tian, H
;
Wang, X
收藏
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2012/03/24
BURIED OXIDES
OXYGEN
NITROGEN
HARDNESS
DEFECTS
A-SIO2
干法刻蚀和离子注入影响Ⅲ-Ⅴ族半导体量子阱发光特性研究
学位论文
博士: 中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所) , 2007
曹萌
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浏览/下载:43/0
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提交时间:2012/03/06
干法刻蚀
离子注入
光致发光
气态源分子束外延
量子阱
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