多源气相共沉积界面原子吸附行为与机理研究

	多源气相共沉积界面原子吸附行为与机理研究
	刘崇; 王连红; 舒勇华; 樊菁
	2014
会议名称	第十三届全国物理力学学术会议
会议日期	2014-10-17
会议地点	中国湖南湘潭
关键词	薄膜制备入射粒子吸附系数沉积薄膜共沉积影响因素物理气相沉积分比动力学模拟高温超导
其他题名	中国科学院力学研究所高温气体动力学国家重点实验室;
中文摘要	多源物理气相沉积在功能薄膜制备领域有着广泛的应用,精确控制沉积组分是保证薄膜具有优异性能的先决条件。在沉积生长过程中,各类原子/分子在沉积界面上的吸附几率影响着薄膜的组分比,而在特定条件下沉积界面的组分也会反作用于入射粒子的吸附几率,上述影响因素的耦合增加了组分调控的难度与不确定性。为实现对沉积薄膜组分的有效控制,需要深入研究沉积界面上各类原子或分子的吸附系数随薄膜组分、温度的变化规律。本研究以
会议录	第十三届全国物理力学学术会议论文摘要集
语种	中文
内容类型	会议论文
源URL	[http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/52107]
专题	力学研究所_高温气体动力学国家重点实验室
推荐引用方式 GB/T 7714	刘崇,王连红,舒勇华,等. 多源气相共沉积界面原子吸附行为与机理研究[C]. 见:第十三届全国物理力学学术会议. 中国湖南湘潭. 2014-10-17.