镁合金微弧氧化技术的研究进展

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	镁合金微弧氧化技术的研究进展
	董凯辉 ; 宋影伟 ; 单大勇 ; 孙硕 ; 韩恩厚
刊名	表面技术
	2015-03-20
期号	3 页码:74-80+99
关键词	微弧氧化镁合金耐蚀性氧化工艺成膜机理原位封孔
中文摘要	结合国内外微弧氧化技术的研究成果,综述了成膜过程火花放电机理及陶瓷层的生长过程,总结了电解液组成、电源类型、工作模式、电参数以及基体材料等对微弧氧化膜性能的影响。根据近年来微弧氧化技术用于镁合金表面处理的发展状况,介绍并分析了几种封孔处理的优化方法,重点介绍了工艺更为简单的原位封孔技术。同时也对镁合金微弧氧化技术的发展趋势和应用前景进行了展望。
公开日期	2015-05-11
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/74123]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	董凯辉,宋影伟,单大勇,等. 镁合金微弧氧化技术的研究进展[J]. 表面技术,2015(3):74-80+99.
APA	董凯辉,宋影伟,单大勇,孙硕,&韩恩厚.(2015).镁合金微弧氧化技术的研究进展.表面技术(3),74-80+99.
MLA	董凯辉,et al."镁合金微弧氧化技术的研究进展".表面技术 .3(2015):74-80+99.