一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法
刘伟奇 ; 孟祥翔 ; 郭珍珍 ; 柳华 ; 康玉思 ; 魏忠伦 ; 冯睿
2014-10-15
专利国别中国
专利号201210268327.8
专利类型发明
权利人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中文摘要一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法,属于光刻技术领域中涉及的曝光帧数据的产生方法。要解决的技术问题:提供一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法。技术方案包括图形处理、存储数据;给定时间值、提取行向量;处理行向量、得到曝光帧数据,这三步是在产生整个曝光帧数据的程序流程控制下进行的。本发明利用合理划分曝光位置并与曝光时间相统一,进行一次图形与划分的曝光位置对照,对所有曝光位置赋值“0”或“1”。用一个两页的三维数组存储时间值和对照的赋值,提取相同时间下各聚焦点所在曝光位置的对照赋值组成一帧,随着提取时间值的增大,去掉前段已被提取出时间值的曝光位置,有效提高了帧数据产生的速率。
是否PCT专利
公开日期2014-10-15
语种中文
专利证书号1497235
专利申请号201210268327.8
专利代理刘树清
内容类型专利
源URL[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/42100]  
专题长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
刘伟奇,孟祥翔,郭珍珍,等. 一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法. 201210268327.8. 2014-10-15.
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