| 一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法 | |
| 刘伟奇 ; 孟祥翔 ; 郭珍珍 ; 柳华 ; 康玉思 ; 魏忠伦 ; 冯睿 | |
| 2014-10-15 | |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | 201210268327.8 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 中文摘要 | 一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法，属于光刻技术领域中涉及的曝光帧数据的产生方法。要解决的技术问题：提供一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法。技术方案包括图形处理、存储数据；给定时间值、提取行向量；处理行向量、得到曝光帧数据，这三步是在产生整个曝光帧数据的程序流程控制下进行的。本发明利用合理划分曝光位置并与曝光时间相统一，进行一次图形与划分的曝光位置对照，对所有曝光位置赋值“0”或“1”。用一个两页的三维数组存储时间值和对照的赋值，提取相同时间下各聚焦点所在曝光位置的对照赋值组成一帧，随着提取时间值的增大，去掉前段已被提取出时间值的曝光位置，有效提高了帧数据产生的速率。 |
| 是否PCT专利 | 是 |
| 公开日期 | 2014-10-15 |
| 语种 | 中文 |
| 专利证书号 | 1497235 |
| 专利申请号 | 201210268327.8 |
| 专利代理 | 刘树清 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/42100]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘伟奇,孟祥翔,郭珍珍,等. 一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法. 201210268327.8. 2014-10-15. |
| 个性服务 |
| 查看访问统计 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论