| 一种非球面变焦距光刻物镜系统 | |
| 刘伟奇 ; 吕博 ; 冯睿 ; 魏忠伦 ; 柳华 ; 康玉思 ; 姜珊 | |
| 2014-08-20 | |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | 201210279812.5 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 中文摘要 | 一种非球面变焦距光刻物镜系统，属于光学技术领域，本发明为了解决现有光刻物镜无法实现同一光刻物镜曝光出不同比例大小的掩模板曝光图形的问题，本发明系统从物面到像面依次为：物面、第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组、第五透镜组和像面；物面为掩模板所在平面；第一透镜组用于固定物面与变焦距系统第一片透镜的距离；第二透镜组起到改变光刻物镜焦距及像面尺寸的作用；第三透镜组作用在于当变倍组移动过程中补偿像面的移动，使像面在整个变倍过程中保持位置固定；第四透镜组，具有负光焦度，第五透镜组，具有正光焦度，两者构成后固定组，用于保证光刻物镜靠近像面一侧的最后一片透镜与像面距离不变；像面为刻蚀基片所在平面。 |
| 是否PCT专利 | 是 |
| 公开日期 | 2014-08-20 |
| 语种 | 中文 |
| 专利证书号 | 1465391 |
| 专利申请号 | 201210279812.5 |
| 专利代理 | 南小平 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/42081]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘伟奇,吕博,冯睿,等. 一种非球面变焦距光刻物镜系统. 201210279812.5. 2014-08-20. |
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