852nm半导体激光器量子阱设计与外延生长

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	852nm半导体激光器量子阱设计与外延生长
	曾玉刚; 秦莉; 张星
刊名	光学精密工程
	2013-03-15
期号	03 页码:590-597
关键词	半导体激光器应变量子阱外延生长波长漂移反射各向异性谱
中文摘要	设计并外延生长了具有高温度稳定性的InAlGaAs/AlGaAs应变量子阱激光器,用于解决852nm半导体激光器在高温环境下工作时的波长漂移问题。基于理论模型,计算并模拟对比了InAlGaAs,InGaAsP,InGaAs和GaAs量子阱的增益及其增益峰值波长随温度的漂移,结果显示,采用In0.15Al0.11Ga0.74As作为852nm半导体激光器的量子阱可以使器件同时具有较高的增益峰值和良好的波长温漂稳定性。使用金属有机化合物气相淀积(MOCVD)外延生长了In0.15Al0.11Ga0.74As/Al0.3Ga0.7As有源区,通过反射各向异性谱(RAS)在线监测和PL谱研究了InAlGaAs/AlGaAs界面的外延质量,实验证明了通过降低生长温度和在InAlGaAs/AlGaAs界面处使用中断时间,可以有效抑制In析出,从而获得InAlGaAs/AlGaAs陡峭界面。最后,采用优化后的外延生长条件,研制出了InAlGaAs/AlGaAs应变量子阱激光器。实验测试结果显示,其光谱半高宽为1.1nm,斜率效率为0.64W/A,激射波长随温度漂移为0.256nm/K。理论计算结果与实验测试结果相吻合,证明器件性能满足在高温环境下工作的要求。
收录类别	CNKI
语种	中文
公开日期	2014-03-07
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/38259]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	曾玉刚,秦莉,张星. 852nm半导体激光器量子阱设计与外延生长[J]. 光学精密工程,2013(03):590-597.
APA	曾玉刚,秦莉,&张星.(2013).852nm半导体激光器量子阱设计与外延生长.光学精密工程(03),590-597.
MLA	曾玉刚,et al."852nm半导体激光器量子阱设计与外延生长".光学精密工程 .03(2013):590-597.