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题名Ge在Si(111)-7X7表面自组织生长的STM研究
作者闫隆
学位类别博士
答辩日期2002
授予单位中国科学院物理研究所
导师解思琛
学位专业凝聚态物理
索取号XW0758
语种中文
公开日期2013-10-10
页码85
内容类型学位论文
源URL[http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/55303]  
专题物理研究所_物理所学位论文_物理所学位论文_学位论文
推荐引用方式
GB/T 7714
闫隆. Ge在Si(111)-7X7表面自组织生长的STM研究[D]. 中国科学院物理研究所. 2002.
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