Ti-6A1-4V中界面能对α相片层生长的影响三维相场模拟

	Ti-6A1-4V中界面能对α相片层生长的影响三维相场模拟
	杨梅
刊名	金属学报
	2012-02-29
页码	148-158
其他题名	3D PHASE FIELD SIMULATION OF EFFECT OF INTERFACIAL ENERGY ANISOTROPY ON SIDEPLATE GROWTH IN Ti–6Al–4V
通讯作者	杨梅
学科主题	计算机科学技术
收录类别	EI
语种	中文
公开日期	2013-08-28
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ircnic.ac.cn/handle/311056/2284]
专题	计算机网络信息中心_中国科学院计算机网络信息中心(2012年前)_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	杨梅. Ti-6A1-4V中界面能对α相片层生长的影响三维相场模拟[J]. 金属学报,2012:148-158.
APA	杨梅.(2012).Ti-6A1-4V中界面能对α相片层生长的影响三维相场模拟.金属学报,148-158.
MLA	杨梅."Ti-6A1-4V中界面能对α相片层生长的影响三维相场模拟".金属学报 (2012):148-158.