偏压对高功率脉冲磁控溅射法沉积MoN涂层结构及性能的影响

	偏压对高功率脉冲磁控溅射法沉积MoN涂层结构及性能的影响
	康建 2,3; 隋旭东 1,2; 杨淑燕 2,3; 周海斌 1,2; 郝俊英 1,2; 万勇 2,3; 刘维民 2
刊名	摩擦学学报
	2023
卷号	43 期号:10 页码:1118-1127
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.licp.cn/handle/362003/30475]
专题	兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室
通讯作者	隋旭东; 万勇
作者单位	1.青岛市资源化学与新材料研究中心, 山东青岛 266000 2.中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室, 甘肃兰州 730000 3.青岛理工大学机械与汽车工程学院, 山东青岛 266033
推荐引用方式 GB/T 7714	康建,隋旭东,杨淑燕,等. 偏压对高功率脉冲磁控溅射法沉积MoN涂层结构及性能的影响[J]. 摩擦学学报,2023,43(10):1118-1127.
APA	康建.,隋旭东.,杨淑燕.,周海斌.,郝俊英.,...&刘维民.(2023).偏压对高功率脉冲磁控溅射法沉积MoN涂层结构及性能的影响.摩擦学学报,43(10),1118-1127.
MLA	康建,et al."偏压对高功率脉冲磁控溅射法沉积MoN涂层结构及性能的影响".摩擦学学报 43.10(2023):1118-1127.