题名 | 接近接触式光刻系统中的自动对准技术研究 |
作者 | 张绍宇 |
答辩日期 | 2021-05 |
文献子类 | 硕士 |
授予单位 | 中国科学院大学 |
授予地点 | 中国科学院光电技术研究所 |
关键词 | 接近接触式光刻 光刻对准 图像处理 |
学位名称 | 工程硕士 |
英文摘要 | 在半导体芯片的制造过程中,光刻机是最关键的设备。光刻机作为技术最复杂的设备之一,集合最尖端的光、机、电、算技术为一体。对准技术作为光刻三大核心技术之一,在光刻生产中起着至关重要的作用。提高光刻对准的精度能够直接提高套刻精度,从而提高产品质量,同时提高光刻对准的速度和效率也能够提高产品的生产率。 |
语种 | 中文 |
内容类型 | 学位论文 |
源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/10218] |
专题 | 光电技术研究所_光电技术研究所博硕士论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张绍宇. 接近接触式光刻系统中的自动对准技术研究[D]. 中国科学院光电技术研究所. 中国科学院大学. 2021. |
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