多铁材料BiFeO3薄膜中失配压应变导致的界面重构

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	多铁材料BiFeO3薄膜中失配压应变导致的界面重构
	耿皖荣 2; 朱银莲 2; 唐云龙 2; 马秀良 2
刊名	电子显微学报
	2019
卷号	38.0 期号:006 页码:579-584
关键词	多铁薄膜界面重构应变释放扫描透射电子显微镜
ISSN号	1000-6281
其他题名	The interface reconstruction induced by compressive strain in multiferroic BiFeO3 films
英文摘要	本文利用透射电子显微术研究了外延生长的多铁BiFeO3/NdGaO3(110)O薄膜中的界面重构现象。高分辨HAADF-STEM像表明:衬底的截止层为GaO2原子层;在BiFeO3/NdGaO3界面处,Nd元素部分取代了BiFeO3的Bi元素,从而在平行于界面的第一原子层形成了BiO-NdO交替排列的界面重构形态。利用寻峰拟合方法对高分辨HAADF-STEM像的分析表明,这种界面重构的发生可以部分释放衬底施加的压应变。本研究提出了多铁材料BiFeO3薄膜中一种新的应变释放途径。
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:6636433
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/142213]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
作者单位	1.中国科学技术大学 2.中国科学院金属研究所 3.兰州理工大学
推荐引用方式 GB/T 7714	耿皖荣,朱银莲,唐云龙,等. 多铁材料BiFeO3薄膜中失配压应变导致的界面重构[J]. 电子显微学报,2019,38.0(006):579-584.
APA	耿皖荣,朱银莲,唐云龙,&马秀良.(2019).多铁材料BiFeO3薄膜中失配压应变导致的界面重构.电子显微学报,38.0(006),579-584.
MLA	耿皖荣,et al."多铁材料BiFeO3薄膜中失配压应变导致的界面重构".电子显微学报 38.0.006(2019):579-584.