一种基于硅基氮化镓和二硫化钨单层膜的二维激子激光器及其制备方法
蔡玮; 韩冰; 王新迪
2019-09-13
著作权人南京工程学院
专利号CN110233427A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名一种基于硅基氮化镓和二硫化钨单层膜的二维激子激光器及其制备方法
英文摘要本申请公开了一种基于硅基氮化镓和二硫化钨单层膜的二维激子激光器及其制备方法,使用电感耦合等离子体反应离子刻蚀技术在硅衬底氮化镓晶圆上表面经过两次刻蚀形成三层阶梯状台阶;使用磁控溅射技术在三层阶梯状台阶中间台面和下台面同时蒸镀形成p型电极和n型电极;使用聚焦离子束刻蚀技术刻蚀u‑GaN层获得高Q值光子晶体纳米腔;再使用PDMS将增益介质WS2单层膜转印到光子晶体纳米腔表面,WS2单层膜上下表面旋涂CYTOP进行双面封装。在电流注入下,InGaN/GaN量子阱MQWs层自发辐射发出的蓝光经光子晶体纳米腔及WS2单层膜增益后形成红色激光并沿着器件表面法线方向出射。
公开日期2019-09-13
申请日期2019-06-12
状态申请中
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92462]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位南京工程学院
推荐引用方式
GB/T 7714
蔡玮,韩冰,王新迪. 一种基于硅基氮化镓和二硫化钨单层膜的二维激子激光器及其制备方法. CN110233427A. 2019-09-13.
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace