渐变掺杂宽波导带间级联激光器及其制备方法
张一; 牛智川; 张宇; 徐应强; 杨成奥; 谢圣文; 邵福会; 尚金铭
2019-01-04
著作权人中国科学院半导体研究所
专利号CN109149368A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名渐变掺杂宽波导带间级联激光器及其制备方法
英文摘要本发明公开了一种渐变掺杂宽波导带间级联激光器及其制备方法,其中,渐变掺杂宽波导带间级联激光器,包括:衬底;以及自下而上依次外延的下波导包层、下分别限制层、级联区、上分别限制层、上波导包层、以及上接触层;其中,下分别限制层和上分别限制层的厚度为百纳米到微米量级,并且下分别限制层和上分别限制层都是渐变掺杂,使得下分别限制层和上分别限制层的两端掺杂浓度相对较高,中心区域掺杂浓度相对较低。该渐变掺杂宽波导带间级联激光器有效提高了光学限制因子,增加光学增益;有效的降低异质结面的电压降,提高光电效率,可以减小串联电阻,减小自由载流子吸收,减小器件的损耗;并能降低工作电压,提高工作效率。
公开日期2019-01-04
申请日期2018-08-22
状态申请中
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92313]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院半导体研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
张一,牛智川,张宇,等. 渐变掺杂宽波导带间级联激光器及其制备方法. CN109149368A. 2019-01-04.
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