一种具有位错折断结构的GaN基激光器外延结构及其生长方法
邵慧慧; 徐现刚; 开北超; 李沛旭; 郑兆河
2018-11-13
著作权人潍坊华光光电子有限公司
专利号CN108808446A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名一种具有位错折断结构的GaN基激光器外延结构及其生长方法
英文摘要本发明涉及一种具有位错折断结构的GaN基激光器外延结构及其生长方法,自下至上依次包含衬底、成核层、高温GaN层、n型光限制层、n型波导层、发光层、电子阻挡层、P型GaN波导层、P型GaN/AlGaN光限制层和表面欧姆接触层,n型光限制层内设有位错折断层,位错折断层为AlxGa1‑xN与Si3N4的超晶格结构,0<x≤0.6。本发明插入位错折断层,可以实现将GaN基激光器结构生长中所产生的穿透位错折断,从而降低延伸至发光层中的穿透位错密度,从而改善和提高GaN基激光器的性能和使用寿命。
公开日期2018-11-13
申请日期2018-06-27
状态申请中
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92269]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位潍坊华光光电子有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
邵慧慧,徐现刚,开北超,等. 一种具有位错折断结构的GaN基激光器外延结构及其生长方法. CN108808446A. 2018-11-13.
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