一种具有位错折断结构的GaN基激光器外延结构及其生长方法 | |
邵慧慧; 徐现刚; 开北超; 李沛旭; 郑兆河 | |
2018-11-13 | |
著作权人 | 潍坊华光光电子有限公司 |
专利号 | CN108808446A |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | 一种具有位错折断结构的GaN基激光器外延结构及其生长方法 |
英文摘要 | 本发明涉及一种具有位错折断结构的GaN基激光器外延结构及其生长方法,自下至上依次包含衬底、成核层、高温GaN层、n型光限制层、n型波导层、发光层、电子阻挡层、P型GaN波导层、P型GaN/AlGaN光限制层和表面欧姆接触层,n型光限制层内设有位错折断层,位错折断层为AlxGa1‑xN与Si3N4的超晶格结构,0<x≤0.6。本发明插入位错折断层,可以实现将GaN基激光器结构生长中所产生的穿透位错折断,从而降低延伸至发光层中的穿透位错密度,从而改善和提高GaN基激光器的性能和使用寿命。 |
公开日期 | 2018-11-13 |
申请日期 | 2018-06-27 |
状态 | 申请中 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/92269] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 潍坊华光光电子有限公司 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 邵慧慧,徐现刚,开北超,等. 一种具有位错折断结构的GaN基激光器外延结构及其生长方法. CN108808446A. 2018-11-13. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论