GaN単結晶基板
元木 健作; 西本 達也; 岡久 拓司; 松本 直樹
2006-04-07
著作权人住友電気工業株式会社
专利号JP3788037B2
国家日本
文献子类授权发明
其他题名GaN単結晶基板
英文摘要【目的】 面積が広く反りが少なく自立できるGaN単結晶基板を提供すること。 【構成】 GaAs(111)基板の上に千鳥型窓やストライプ窓を有するマスクを形成し、HVPE法またはMOC法により低温でGaNバッファ層を形成し、HVPE法により高温でGaNエピタキシャル層を厚く形成し、GaAs基板を除去する。GaNの自立膜を種結晶としてHVPE法でGaNを厚付けしGaNインゴットを作る。これをスライサーによって切断して透明無色の反りの少ないGaNウエハを作る。
公开日期2006-06-21
申请日期1998-06-18
状态失效
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/44692]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位住友電気工業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
元木 健作,西本 達也,岡久 拓司,等. GaN単結晶基板. JP3788037B2. 2006-04-07.
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